Volfrám szilicid
Volfrám szilicid
A WSi2 volfrám-szilicidet elektromos sokkoló anyagként használják a mikroelektronikában, poliszilícium huzalok söntésére, oxidációgátló bevonatokra és ellenálláshuzal-bevonatokra.A mikroelektronikában a wolfram-szilicidet érintkező anyagként használják, fajlagos ellenállása 60-80μΩcm.1000°C-on keletkezik.Általában poliszilícium vonalak söntjeként használják vezetőképességének növelésére és a jel sebességének növelésére.A wolfram-szilicid réteg kémiai gőzleválasztással, például gőzleválasztással állítható elő.Nyersanyagként monoszilánt vagy diklórszilánt és volfrám-hexafluoridot használjon.A leválasztott film nem sztöchiometrikus, és hőkezelést igényel, hogy vezetőképesebb sztöchiometrikus formává alakuljon át.
A volfrám-szilicid helyettesítheti a korábbi volfrámfilmet.A volfrám-szilicidet zárórétegként is használják a szilícium és más fémek között.
A volfrám-szilicid nagyon értékes a mikroelektromechanikai rendszerekben is, amelyek közül a volfrám-szilicidet főleg vékony filmként használják mikroáramkörök gyártásához.Ebből a célból a wolfram-szilicid filmet plazmamaratással, például sziliciddel lehet maratni.
| TÉTEL | Kémiai összetétel | |||||
| Elem | W | C | P | Fe | S | Si |
| Tartalom (tömeg%) | 76.22 | 0,01 | 0,001 | 0.12 | 0,004 | Egyensúly |
A Rich Special Materials a porlasztó célpontok gyártására specializálódott, és az ügyfelek specifikációi szerint volfrám-szilicid porlasztó anyagokat tud előállítani.További információért forduljon hozzánk.
