A közelmúltban sok felhasználó érdeklődött a porlasztó bevonat technológia előnyeiről és hátrányairól, Ügyfeleink igényei szerint most az RSM Technológiai Osztály szakértői osztják meg velünk, remélve, hogy megoldják a problémákat.Valószínűleg a következő pontok vannak:
1、 Kiegyensúlyozatlan magnetron porlasztás
Feltételezve, hogy a magnetron porlasztó katód belső és külső mágneses pólusvégén áthaladó mágneses fluxus nem egyenlő, akkor ez egy kiegyensúlyozatlan magnetron porlasztó katód.A hagyományos magnetron porlasztó katód mágneses tere a célfelület közelében koncentrálódik, míg a kiegyensúlyozatlan magnetron porlasztó katód mágneses tere kisugárzik a célból.A közönséges magnetron katód mágneses tere szorosan korlátozza a plazmát a célfelület közelében, míg a hordozó közelében lévő plazma nagyon gyenge, és a hordozót nem bombázzák erős ionok és elektronok.A nem egyensúlyi magnetron katód mágneses tér a plazmát messze kiterjesztheti a célfelülettől, és bemerítheti a hordozót.
2、 Rádiófrekvenciás (RF) porlasztás
A szigetelőfólia felvitelének elve: a szigetelő céltárgy hátoldalán elhelyezett vezetőre negatív potenciál kerül.Az izzító kisülésű plazmában, amikor a pozitív ionvezető lemez felgyorsul, porlasztásra bombázza az előtte lévő szigetelő célpontot.Ez a porlasztás csak 10-7 másodpercig tarthat.Ezt követően a szigetelő céltárgyon felhalmozódott pozitív töltés által képzett pozitív potenciál kiegyenlíti a vezetőlemezen lévő negatív potenciált, így a nagyenergiájú pozitív ionok bombázása a szigetelő céltárgyon megszűnik.Ekkor, ha a tápegység polaritása megfordul, az elektronok bombázzák a szigetelőlapot és 10-9 másodpercen belül semlegesítik a szigetelőlemez pozitív töltését, nullává téve annak potenciálját.Ekkor a tápegység polaritásának felcserélése 10-7 másodpercig tartó porlasztást okozhat.
Az RF porlasztás előnyei: fém és dielektromos céltárgyak is porlasztásosak.
3、 DC magnetron porlasztás
A magnetron porlasztó bevonó berendezés növeli a mágneses teret az egyenáramú porlasztó katód célpontjában, a mágneses tér Lorentz-erejét használja az elektronok megkötésére és az elektromos térben lévő pályájának kiterjesztésére, növeli az elektronok és a gázatomok ütközésének esélyét, növeli a A gázatomok ionizációs sebessége növeli a célpontot bombázó nagyenergiájú ionok számát és csökkenti a bevont hordozót bombázó nagy energiájú elektronok számát.
A planáris magnetronos porlasztás előnyei:
1. A cél teljesítménysűrűség elérheti a 12w/cm2-t;
2. A célfeszültség elérheti a 600 V-ot;
3. A gáznyomás elérheti a 0,5pa-t.
A planáris magnetronos porlasztás hátrányai: a célpont porlasztócsatornát képez a kifutó területén, a teljes célfelület marása egyenetlen, a céltárgy kihasználtsága mindössze 20-30%.
4、 Köztes frekvenciájú AC magnetron porlasztás
Arra utal, hogy a közepes frekvenciájú AC magnetron porlasztó berendezésekben általában két azonos méretű és alakú célpont van egymás mellett konfigurálva, ezeket gyakran ikercéloknak nevezik.Ezek felfüggesztett telepítések.Általában két célpont áramellátása egyszerre történik.A közepes frekvenciájú AC magnetron reaktív porlasztás során a két célpont egymás után anódként és katódként, illetve anódkatódként működik ugyanabban a félciklusban.Amikor a célpont a negatív félciklus potenciálon van, a célfelületet pozitív ionok bombázzák és porlasztják;A pozitív félciklusban a plazma elektronjai felgyorsulnak a célfelületre, hogy semlegesítsék a célfelület szigetelő felületén felgyülemlett pozitív töltést, ami nemcsak elnyomja a célfelület gyulladását, hanem kiküszöböli a „célfelület” jelenségét is. anód eltűnése”.
A közepes frekvenciájú kettős célú reaktív porlasztás előnyei a következők:
(1) Magas lerakódási arány.Szilícium céltárgyak esetében a közepes frekvenciájú reaktív porlasztás lerakódási sebessége 10-szerese az egyenáramú reaktív porlasztásénak;
(2) A porlasztási folyamat stabilizálható a beállított működési ponton;
(3) A „gyulladás” jelensége megszűnik.Az elkészített szigetelőfólia hibasűrűsége több nagyságrenddel kisebb, mint az egyenáramú reaktív porlasztásos módszernél;
(4) A magasabb szubsztrátum-hőmérséklet előnyös a film minőségének és adhéziójának javításához;
(5) Ha a tápegység könnyebben illeszkedik a célhoz, mint az RF tápegység.
5、 Reaktív magnetron porlasztás
A porlasztási folyamat során a reakciógázt betáplálják, hogy reakcióba lépjen a porlasztott részecskékkel, így összetett filmek képződnek.Biztosíthat reaktív gázt, amely egyidejűleg reagál a porlasztó vegyület céljával, és reaktív gázt is biztosíthat, hogy egyidejűleg reagáljon a porlasztó fém vagy ötvözet célpontjával, hogy adott kémiai arányú összetett filmeket készítsen.
A reaktív magnetron porlasztó keverékfilmek előnyei:
(1) A felhasznált célanyagok és reakciógázok oxigén, nitrogén, szénhidrogének stb., amelyekből általában könnyen előállíthatók nagy tisztaságú termékek, ami elősegíti a nagy tisztaságú összetett filmek előállítását;
(2) Az eljárási paraméterek beállításával vegyi vagy nem kémiai vegyületfilmek készíthetők, így a filmek jellemzői beállíthatók;
(3) Az aljzat hőmérséklete nem magas, és kevés korlátozás vonatkozik az aljzatra;
(4) Alkalmas nagy felületű egységes bevonat készítésére, és ipari termelést valósít meg.
A reaktív magnetronos porlasztás során könnyen előfordulhat a vegyületporlasztás instabilitása, elsősorban:
(1) Nehéz összetett célpontokat előállítani;
(2) A célmérgezés és a porlasztási folyamat instabilitása által okozott ívkiütés (ívkisülés) jelensége;
(3) Alacsony porlasztásos lerakódási sebesség;
(4) A film hibasűrűsége nagy.
Feladás időpontja: 2022. július 21