Jelenleg szinte az összes, az IC-ipar által megkívánt csúcskategóriás, ultra-nagy tisztaságú fémréz céltárgyat több nagy külföldi multinacionális vállalat monopolizálta.A hazai IC-ipar számára szükséges összes ultratiszta réz céltárgyat importálni kell, ami nem csak drága, de bonyolult is az importálási eljárásokban. Ezért Kínának sürgősen javítania kell az ultranagy tisztaságú (6N) rézporlasztási célok fejlesztésén és ellenőrzésén. .Vessünk egy pillantást az ultra-nagy tisztaságú (6N) rézporlasztó célpontok fejlesztésének kulcspontjaira és nehézségeire.
1、Ultra nagy tisztaságú anyagok fejlesztése
A nagy tisztaságú Cu, Al és Ta fémek tisztítási technológiája Kínában messze van az iparilag fejlett országokétól.Jelenleg a biztosítható nagy tisztaságú fémek többsége nem tudja teljesíteni a porlasztásos célokra szolgáló integrált áramkörök minőségi követelményeit az iparban szokásos minden elem elemzési módszer szerint.A célban lévő zárványok száma túl magas vagy egyenetlenül oszlik el.A porlasztás során gyakran részecskék képződnek az ostyán, ami rövidzárlatot vagy szakadást eredményez az összekapcsolásban, ami súlyosan befolyásolja a fólia teljesítményét.
2、Rézporlasztásos cél-előkészítési technológia fejlesztése
A rézporlasztásos céltárgy-előkészítési technológia fejlesztése elsősorban három szempontra fókuszál: a szemcseméretre, az orientáció szabályozására és az egyenletességre.A félvezetőipar a legmagasabb követelményeket támasztja a céltárgyak porlasztásával és a nyersanyagok elpárologtatásával szemben.Nagyon szigorú követelményeket támaszt a céltárgy felületi szemcseméretének és kristály orientációjának ellenőrzésére.A célpont szemcseméretét 100-on kell szabályozniμ M alább tehát a szemcseméret szabályozása és a korrelációelemzés és kimutatás eszközei nagyon fontosak a fémcélpontok fejlesztése szempontjából.
3、Az elemzés fejlesztése éstesztelés technológia
A céltárgy nagy tisztasága a szennyeződések csökkentését jelenti.Korábban az induktív csatolású plazma (ICP) és atomabszorpciós spektrometriát használták a szennyeződések meghatározására, de az utóbbi években fokozatosan a magasabb érzékenységű izzítási minőségelemzést (GDMS) alkalmazták standardként. módszer.A reziduális ellenállás arány RRR módszerét elsősorban az elektromos tisztaság meghatározására használják.Meghatározási elve a nem nemesfém tisztaságának értékelése a szennyeződések elektronikus diszperziós fokának mérésével.Mivel az ellenállást szobahőmérsékleten és nagyon alacsony hőmérsékleten kell mérni, egyszerű a szám kiszámítása.Az utóbbi években a fémek lényegének feltárása érdekében igen aktívak az ultranagy tisztaságú kutatások.Ebben az esetben az RRR érték a legjobb módja a tisztaság értékelésének.
Feladás időpontja: 2022. május 06