Mint mindannyian tudjuk, a vákuumbepárlást és az ionporlasztást általában a vákuumbevonatoknál alkalmazzák.Mi a különbség a párologtató bevonat és a porlasztó bevonat között?Ezután az RSM műszaki szakértői osztják meg velünk.
A vákuumpárologtatásos bevonat az elpárologtatandó anyagot ellenállásfűtéssel vagy elektronsugaras és lézerbombázással meghatározott hőmérsékletre hevíteni 10-2Pa-nál nem kisebb vákuumfokú környezetben úgy, hogy a molekulák hőrezgési energiája, ill. Az anyagban lévő atomok mennyisége meghaladja a felület kötési energiáját, így nagyszámú molekula vagy atom elpárolog vagy szublimál, és közvetlenül kicsapódik a szubsztrátumon, filmet képezve.Az ionporlasztásos bevonat a gázkisüléssel generált pozitív ionok nagy sebességű mozgását használja fel elektromos tér hatására, hogy bombázza a célt katódként, így a célpontban lévő atomok vagy molekulák kiszöknek és kicsapódnak a bevont munkadarab felületére, hogy kialakuljanak. a szükséges filmet.
A vákuumpárologtatásos bevonat leggyakrabban használt módszere az ellenállásfűtés, amelynek előnyei az egyszerű szerkezet, az alacsony költség és a kényelmes működés;Hátránya, hogy nem alkalmas tűzálló fémekhez és magas hőmérsékletnek ellenálló dielektromos anyagokhoz.Az elektronsugaras fűtés és a lézerfűtés kiküszöbölheti az ellenállásfűtés hiányosságait.Az elektronsugaras melegítésnél a fókuszált elektronsugarat a bombázott anyag közvetlen melegítésére használják, és az elektronsugár kinetikus energiája hőenergiává válik, ami az anyagot elpárologtatja.A lézeres fűtés nagy teljesítményű lézert használ fűtési forrásként, de a nagy teljesítményű lézer magas költsége miatt jelenleg csak néhány kutatólaboratóriumban alkalmazható.
A porlasztásos technológia eltér a vákuumpárologtatási technológiától.A „porlasztás” arra a jelenségre utal, hogy a töltött részecskék bombázzák a szilárd felületet (célpontot), és szilárd atomokat vagy molekulákat lövellnek ki a felszínről.A kibocsátott részecskék többsége atomi állapotban van, amit gyakran porlasztott atomoknak neveznek.A célpont bombázására használt porlasztott részecskék lehetnek elektronok, ionok vagy semleges részecskék.Mivel az ionok könnyen felgyorsulnak az elektromos tér alatt, hogy elérjék a szükséges kinetikus energiát, legtöbbjük ionokat használ bombázott részecskékként.A porlasztási folyamat az izzító kisülésen alapul, vagyis a porlasztó ionok gázkisülésből származnak.A különböző porlasztási technológiák különböző izzítási módokat alkalmaznak.Az egyenáramú dióda-porlasztás DC izzókisülést használ;A triódaporlasztás forró katóddal támogatott izzító kisülés;Az RF porlasztás RF izzókisülést használ;A magnetronporlasztás egy gyűrű alakú mágneses tér által szabályozott izzító kisülés.
A vákuumpárologtató bevonattal összehasonlítva a porlasztó bevonatnak számos előnye van.Például bármilyen anyag porlasztható, különösen a magas olvadáspontú és alacsony gőznyomású elemek és vegyületek;Jó a tapadás a porlasztott film és az alapfelület között;Nagy filmsűrűség;A film vastagsága szabályozható és az ismételhetőség jó.Hátránya, hogy a berendezés bonyolult és nagyfeszültségű eszközöket igényel.
Ezenkívül a bepárlási módszer és a porlasztásos módszer kombinációja az ionozás.Ennek a módszernek az az előnye, hogy a kapott film erősen tapad a szubsztrátumhoz, nagy lerakódási sebességgel és nagy filmsűrűséggel rendelkezik.
Feladás időpontja: 2022.07.20