A poliszilícium fontos porlasztási célanyag.Magnetron porlasztásos módszerrel SiO2 és más vékony filmek előállítására jobb optikai, dielektromos és korrózióállóságú lehet a mátrixanyag, amelyet széles körben használnak az érintőképernyős, optikai és más iparágakban.
A hosszú kristályok öntésének folyamata a folyékony szilícium alulról felfelé haladó irányított megszilárdulásának megvalósítása a tuskókemence forró mezőjében a fűtőelem hőmérsékletének és a hőszigetelő anyag hőelvezetésének pontos szabályozásával, valamint a A hosszú kristályok megszilárdulási sebessége 0,8-1,2 cm/h.Ugyanakkor az irányszilárdulás folyamatában megvalósulhat a szilícium anyagokban lévő fémelemek szegregációs hatása, a fémelemek nagy része megtisztítható, egységes polikristályos szilíciumszemcse-struktúra alakítható ki.
Az öntött poliszilíciumot is szándékosan adalékolni kell a gyártási folyamat során, hogy megváltoztassuk az akceptor szennyeződések koncentrációját a szilícium olvadékban.A p-típusú öntött poliszilícium fő adalékanyaga az iparban a szilícium-bór mesterötvözet, amelyben a bórtartalom körülbelül 0,025%.Az adalékanyag mennyiségét a szilícium lapka célellenállása határozza meg.Az optimális ellenállás 0,02 ~ 0,05 Ω • cm, és a megfelelő bórkoncentráció kb. 2 × 1014cm-3. A szilíciumban lévő bór szegregációs együtthatója azonban 0,8, ami bizonyos szegregációs hatást fog mutatni az irányított megszilárdulási folyamatban, Ez azt jelenti, hogy a bór elem gradiensben oszlik el a tuskó függőleges irányában, és az ellenállás fokozatosan csökken a tuskó aljától a tetejéig.
Feladás időpontja: 2022. július 26