A magnetronos porlasztásos bevonat egy új fizikai gőzbevonási eljárás, a korábbi párologtatásos bevonási módszerhez képest előnyei sok szempontból igen figyelemre méltóak.Kiforrott technológiaként a magnetronos porlasztást számos területen alkalmazták.
Magnetron porlasztási elve:
A porlasztott célpólus (katód) és az anód közé ortogonális mágneses mezőt és elektromos mezőt adnak, és a szükséges inert gázt (általában Ar gázt) a nagyvákuumkamrába töltik.Az állandó mágnes 250-350 gaus erősségű mágneses teret képez a célanyag felületén, az ortogonális elektromágneses mezőt pedig a nagyfeszültségű elektromos tér alkotja.Az elektromos tér hatására az Ar gáz pozitív ionokká és elektronokká ionizálódik, cél és bizonyos negatív nyomása van, a célponttól a pólustól a mágneses tér hatására és a munkagáz ionizációs valószínűségének növekedésével nagy sűrűségű plazmát képeznek a közelében. katód, Ar ion lorentz erő hatására felgyorsítja a célfelületre repülést, nagy sebességgel bombázza a célfelületet, A célponton lévő porlasztott atomok az impulzuskonverzió elvét követik és nagy kinetikával repülnek el a célfelülettől energiát a szubsztrát lerakó filmre.
A mágneses porlasztást általában két típusra osztják: egyenáramú porlasztásra és RF-porlasztásra.Az egyenáramú porlasztóberendezés elve egyszerű, és fémporlasztáskor gyors a sebesség.Kiterjedtebb az RF porlasztás alkalmazása, a vezető anyagok porlasztása mellett, de nem vezető anyagok porlasztása is, de oxidok, nitridek és karbidok, valamint egyéb összetett anyagok reaktív porlasztása is.Ha az RF frekvenciája növekszik, az mikrohullámú plazmaporlasztássá válik.Jelenleg az elektronciklotronrezonancia (ECR) típusú mikrohullámú plazmaporlasztást használják általánosan.
Magnetron porlasztó bevonat célanyaga:
Fémporlasztó célanyag, bevonatötvözet porlasztó bevonóanyag, kerámia porlasztó bevonóanyag, borid kerámia porlasztó célanyagok, keményfém kerámia porlasztó célanyag, fluorid kerámia porlasztó célanyag, nitrid kerámia porlasztó célanyag, nitrid kerámia porlasztó célanyag, oxid kerámia porlasztó célanyag, szelíd kerámia célanyag szilicid kerámia porlasztó célanyagok, szulfid kerámia porlasztó célanyag, Telluride kerámia porlasztó céltárgy, egyéb kerámia céltárgy, krómmal adalékolt szilícium-oxid kerámia céltárgy (CR-SiO), indium-foszfid célpont (InP), ólom-arzenid célpont (PbAs), indium-arzenid cél (InAs).
Feladás időpontja: 2022-03-03