Üdvözöljük weboldalainkon!

TaNb porlasztó célpont nagy tisztaságú vékony film Pvd bevonat egyedi gyártás

Tantál-nióbium

Rövid leírás:

Kategória

Ötvözet Sputtering Target

Kémiai formula

TaNb

Fogalmazás

Tantál-nióbium

Tisztaság

99,9%, 99,95%, 99,99%

Alak

Lemezek, Oszlopcélok, Ívkatódok, Egyedi gyártás

Gyártási folyamat

Vákuumos olvasztás

Elérhető méret

L≤2000mm, W≤200mm


Termék leírás

Termékcímkék

Tantál-nióbium porlasztásos célpont leírása

A tantál-nióbium porlasztó céltárgyat a tantál és a nióbium vákuumolvasztásával állítják elő.Ez a kettő magas olvadáspontú (tantál 2996 ℃, nióbium 2468 ℃), magas forráspontú (tantál 5427 ℃, nióbium 5127 ℃) ritka fémek.A tantál-nióbium ötvözet az acélhoz hasonló megjelenésű, ezüstszürke fényű (míg a por sötétszürke).Számos kedvező tulajdonsággal rendelkezik: korrózióállóság, szupravezető képesség és magas hőmérsékleti szilárdság.Így minden alkalmazás vagy iparág profitálhat a tantál-nióbiumötvözetek használatából, mint például az elektronika, az üveg és az optika, a repülőgépipar, az orvosi eszközök, a szupravezetés és az acél.

A tantál és a nióbium évek óta kulcsfontosságú az űriparban lenyűgöző szilárdságuk, korrózióállóságuk és más vonzó tulajdonságaik miatt, és számos fontos alkatrészben, például rakétahajtóművekben és fúvókákban használták.

Tantál-nióbium porlasztásos célcsomagolás

A hatékony azonosítás és minőségellenőrzés érdekében a TaNb porlasztó célpontja egyértelműen fel van címkézve és kívülről címkézve.Nagy gondot fordítunk arra, hogy elkerüljük a tárolás vagy szállítás során esetlegesen bekövetkező károkat.

Kapcsolatfelvétel

Az RSM tantál-nióbium porlasztó célpontjai rendkívül nagy tisztaságúak és egyenletesek.Különféle formában, tisztaságban, méretben és áron kaphatók.Nagy tisztaságú vékonyréteg-bevonó anyagok gyártására specializálódtunk, amelyek kiváló teljesítménnyel, valamint a lehető legnagyobb sűrűséggel és a lehető legkisebb átlagos szemcsemérettel penészbevonathoz, dekorációhoz, autóalkatrészekhez, alacsony E-szintű üveghez, félvezető integrált áramkörhöz, vékonyréteghez használhatók. ellenállás, grafikus kijelző, légiközlekedés, mágneses rögzítés, érintőképernyő, vékonyfilmes napelem és egyéb fizikai gőzleválasztási (PVD) alkalmazások.Kérjük, küldjön nekünk érdeklődést a porlasztási célokra és a listán nem szereplő egyéb lerakódási anyagokra vonatkozó aktuális árakkal kapcsolatban.


  • Előző:
  • Következő: