Nagykereskedelmi TiNb porlasztásos cél nagy tisztaságú vékony film Pvd bevonat Egyedi gyártású gyártó és szállító |Gazdag

Titán-nióbium

TiNb porlasztásos cél nagy tisztaságú vékony film Pvd bevonat egyedi készítésű kiemelt kép

Rövid leírás:

Kategória	Ötvözet Sputtering Target
Kémiai formula	TiNb
Fogalmazás	Titán-nióbium
Tisztaság	99,9%, 99,95%, 99,99%
Alak	Lemezek, Oszlopcélok, Ívkatódok, Egyedi gyártás
Gyártási folyamat	Vákuumos olvasztás, PM
Elérhető méret	L≤2000mm, W≤200mm

Küldjön e-mailt nekünk

Termék leírás

Termékcímkék

Tantál-nióbium porlasztásos célpont leírása

A titán-nióbium porlasztó céltárgyat vákuumolvasztással vagy erőkohászati eljárással állítják elő.A tipikus titántartalom 66% (körülbelül 50 tömeg%).Ez egy rendkívüli szupravezető anyag, és hagyományos deformációs és hőkezelési eljárással különféle összetett gyakorlati anyagokká készíthető.

Titán-nióbium porlasztásos célcsomagolás

A titán-nióbium porlasztó célpontunk egyértelműen fel van címkézve és kívülről címkézve biztosítja a hatékony azonosítást és minőség-ellenőrzést.Nagy gondot fordítunk arra, hogy elkerüljük a tárolás vagy szállítás során esetlegesen bekövetkező károkat.

Kapcsolatfelvétel

Az RSM titán-nióbium porlasztó célpontjai rendkívül nagy tisztaságúak és egyenletesek.Különféle formában, tisztaságban, méretben és áron kaphatók.
Sokféle geometriai formát tudunk szállítani: csövek, ívkatódok, sík vagy egyedi gyártású.Termékeink kiváló mechanikai tulajdonságokkal, homogén mikroszerkezettel, polírozott felülettel rendelkeznek, nem szegregáció, pórusok, repedések.

Nagy tisztaságú vékonyréteg-bevonó anyagok gyártására specializálódtunk, amelyek kiváló teljesítménnyel, valamint a lehető legnagyobb sűrűséggel és a lehető legkisebb átlagos szemcsemérettel penészbevonathoz, dekorációhoz, autóalkatrészekhez, alacsony E-szintű üveghez, félvezető integrált áramkörhöz, vékonyréteghez használhatók. ellenállás, grafikus kijelző, légiközlekedés, mágneses rögzítés, érintőképernyő, vékonyfilmes napelem és egyéb fizikai gőzleválasztási (PVD) alkalmazások.Kérjük, küldjön nekünk érdeklődést a porlasztási célokra és a listán nem szereplő egyéb lerakódási anyagokra vonatkozó aktuális árakkal kapcsolatban.

Előző: TiNbZr porlasztó célpont nagy tisztaságú vékony film Pvd bevonat egyedi gyártás

Következő: TiNi Sputtering Target nagy tisztaságú vékony film Pvd bevonat egyedi gyártás